HF-1300型箱式真空鍍膜機
真空室：立式前開門。內膜Φ1300×1500，,304不銹鋼；外壁通冷卻水，內襯不銹鋼防污板
真空系統：機械泵+羅茨泵+2臺擴散泵+維持泵
極限真空：3.0E-4pa
恢復真空：大氣至4.0E-3pa≤15min
工作架：Φ1220mm帽形工件盤等，扇形，行星
烘烤：采用進口管狀加熱器；最高溫度350℃，可調可控
蒸發源：電阻蒸發源，2只E型電子槍
離子源：Φ12cm考夫曼（可選），進口
光學膜厚控制：光學專用電源；光學膜厚控制儀；光柵單色儀；波長范圍380-1100nm;反射/透射
石英晶控：SQC310或IC6，低溫單探頭等
電源：3相，380V，50Hz，約60KW
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